Крупнейший в мире производитель оборудования для литографии ASML в ближайшие годы, вероятнее всего, получит больше выгоды не от ускоренного внедрения самой новой технологии High-NA EUV, а от устойчивого спроса на уже установленные системы EUV. Такой вывод следует из свежего исследовательского обзора BofA Securities, где компания-разработчик «переоценивается» в пользу более оптимистичного сценария по текущему сегменту.
Что именно ожидают аналитики
В отчете за ASML сохраняется рекомендация Buy, а целевая цена акций повышается до €1 710 с €1 598. Основания для пересмотра — ожидаемый рост поставок инструментов Low-NA EUV и улучшенные прогнозы по прибыли.
При этом акцент сделан на том, что путь к массовому использованию High-NA (High Numerical Aperture) может оказаться более медленным, чем предполагалось ранее. Хотя технология обещает заметный прирост точности при изготовлении микросхем, внедрение упирается в технические и проектные сложности.
Low-NA и High-NA: в чем разница
В контексте EUV-литографии речь идет о параметрах оптики — насколько «широко» система собирает и фокусирует свет. Условно:
- Low-NA EUV — более «приземленный» вариант, который уже используется в производстве и масштабируется быстрее.
- High-NA EUV — следующая ступень, потенциально дающая более высокую производственную точность, но требующая дополнительных изменений в конструкции и технологических цепочках.
Именно поэтому, по логике аналитиков, ближайшие годы могут принести основной финансовый эффект от дальнейшего расширения парка Low-NA, а не от резкого ускорения перехода на High-NA.
Когда High-NA могут начать применять: разные темпы у разных компаний
Исследование предполагает, что первыми могут использовать High-NA производители памяти. В частности, указывается, что Samsung и SK Hynix вероятнее всего начнут внедрение раньше — потенциально уже с 2028 года.
А вот TSMC, как считают аналитики, может отложить переход до примерно 2032 года — на уровне узла A10. Такой разрыв между компаниями объясняется тем, что у каждого производителя свои технологические приоритеты, планирование мощностей и готовность производственных цепочек к новым требованиям.
Почему внедрение High-NA тормозит: ключевые технические барьеры
В обзоре перечислены заметные препятствия. Среди них — проблемы с так называемым «stitching» (сшиванием): при уменьшении «поля экспозиции» системе приходится объединять несколько экспонированных фрагментов в единое изображение, а это усложняет контроль точности и увеличивает требования к проектированию.
Дополнительные факторы — новые ограничения при дизайне микросхем и более высокая сложность интеграции для крупных AI-чипов. Эти вопросы особенно чувствительны для продвинутых логических устройств, приближающихся по размерам к параметрам, близким к «границам» того, что может эффективно покрывать один экспозиционный шаг (условно — к масштабам ретикла).
Откуда тогда рост в ближайшие годы
Если не делать ставку на ускоренное внедрение High-NA, основной драйвер для ASML, по версии BofA, — расширение спроса на Low-NA EUV. Эти установки применяются при выпуске advanced logic (передовой логики) и DRAM — памяти динамического типа.
Иными словами, компания может нарастить выручку за счет того, что производители продолжат:
- увеличивать использование EUV-слоев в чипах для ИИ;
- расширять мощности по выпуску передовых микросхем;
- замещать более «дешевые по масштабу» технологические подходы на EUV там, где это необходимо для производительности и плотности.
Прогноз по поставкам Low-NA EUV: цифры BofA
Аналитики повысили ожидания по поставкам оборудования Low-NA EUV. В отчете указано:
- 65 единиц в 2026 году;
- 85 единиц в 2027 году;
- 87 единиц в 2028 году.
При этом ранее предполагались более скромные значения: 62 в 2026-м, 81 в 2027-м и 75 в 2028-м.
Кто формирует спрос на оборудование
В BofA считают, что в центре спроса будут TSMC, Samsung, Intel, Micron и SK Hynix. Логика проста: эти компании наращивают производство передовых чипов и увеличивают долю EUV-слоев в продуктах, связанных с ИИ, а также в устройствах типа HBM (high-bandwidth memory — высокоскоростная память с широкой полосой пропускания).
Финансовые ожидания: рост прибыли и выручки
В отчете отмечается, что прогноз по earnings per share (EPS — прибыль на акцию) для ASML поднят до 14,5% для 2028 года. Ориентиры по EPS выглядят так:
- €33,2 в 2026 году;
- €46,5 в 2027 году;
- €58,1 в 2028 году.
Параллельно пересмотрены и оценки по выручке: прогноз на 2028 год теперь приближается к €57,8 млрд.
Нужен ли ASML «рывок» по High-NA
Главная мысль отчета заключается в том, что ASML не обязательно ускорять массовый rollout High-NA, чтобы удерживать сильную динамику. Вместо этого аналитики называют несколько источников устойчивого эффекта: рост производительности уже используемых Low-NA систем, увеличение сервисной выручки и сохранение доминирующей позиции компании на рынке EUV-литографии.
Таким образом, в ближайшей перспективе ставка делается на развитие существующей технологической базы и расширение парка оборудования, тогда как переход на High-NA — даже при его потенциальных преимуществах — рассматривается как этап, который может потребовать больше времени на техническую «дозрелость» производственных цепочек.