После серии встреч в рамках роуд-шоу с руководством ASML — генеральным директором компании и ее финансовым директором — аналитики UBS пересмотрели тональность оценок. В фокусе были опасения инвесторов относительно того, сможет ли нидерландский производитель оборудования для полупроводниковой отрасли нарастить выпуск в нужных объемах. По итогам общения в банке пришли к выводу, что эти опасения могут быть преувеличены.
Повтор рекомендаций UBS: ставка на рост и целевая цена
UBS сохранил для акций ASML рекомендацию Buy. Одновременно банк оставил без изменений целевую стоимость — €1 600. Такой подход означает, что в базовом сценарии аналитики видят потенциал для дальнейшего улучшения финансовых показателей, несмотря на рыночные сомнения вокруг производственных мощностей.
Производственные планы по EUV: акцент на дисциплине и гибкости
Отдельное внимание аналитики уделили заявлениям менеджмента ASML о возможностях по выпуску решений на базе экстремального ультрафиолета (EUV). EUV — это ключевая технология литографии, которая позволяет печатать микросхемы с меньшими проектными нормами, то есть с более высокой плотностью транзисторов. В заметке UBS подчеркнули, что руководство компании вновь подтвердило ориентир на более 80 систем EUV к 2027 году.
При этом в банке отметили, что наращивание поставок, по логике ASML, будет оставаться тесно связанным со спросом, а также с сохранением «дисциплины» — то есть с подходом, при котором компания избегает избыточного производства на опережение. Иными словами, ASML не стремится нарастить выпуск любой ценой: приоритет — баланс между рыночной потребностью и способностью поддерживать эффективность производства.
Аналитики во главе с Франсуа-Ксавье Бувиньи (Francois-Xavier Bouvignies) пояснили: инвесторы, по их мнению, продолжают недооценивать сразу два фактора — производственную гибкость компании и постоянный рост продуктивности в рамках всего портфеля инструментов (то есть не только в части EUV, но и в связанных производственных подсистемах).
Модель EUV F: дополнительный «апгрейд» мощности без пропорционального наращивания выпуска
Еще один аргумент аналитиков — появление в 2027 году новой модификации EUV, обозначенной как модель F. UBS считает, что ее запуск даст дополнительный прирост мощности. Важное уточнение: речь идет не о необходимости пропорционально увеличивать объем производства инструментов, чтобы добиться роста пропускной способности. Такой подход потенциально выгоден с точки зрения маржинальности и эффективности цепочки поставок.
Китай: временная просадка и причины, связанные с готовностью производств
Отдельно аналитики прокомментировали ситуацию с Китаем. В краткосрочной перспективе они ожидают ослабление спроса в этой стране. По их оценке, восстановление спроса на литографическое оборудование идет медленнее, чем предполагалось.
Одна из причин — ограничения по готовности производственных площадок (fab readiness). Это термин, который в отрасли означает степень готовности заводов к приему нового оборудования: от инфраструктуры и инженерных настроек до организационной готовности к выпуску по новым технологическим процессам. Вторая причина — несовпадение сроков поставки и планирования, когда «тайминг» поставок не совпадает с производственными графиками клиентов.
UBS также построил сценарий по выручке ASML от Китая: она, по модели банка, снизится на 10% в 2026 году, а затем отыграет 9% в 2027 году. При этом аргументация UBS строится на том, что общий эффект будет компенсирован за счет более устойчивых сегментов — в первую очередь продвинутой логики и памяти вне Китая. Аналитики считают, что сила в этих направлениях способна перекрыть временный дефицит.
Расходы на литографию в 2025 году: эффект отложен на последующие этапы
Банк обратил внимание на рекордные траты на литографическое оборудование во второй половине 2025 года. Однако UBS считает, что на практике эти расходы с большей вероятностью повлияют на рынок депозиции (deposition) и травления (etch) в 2026 году, а не дадут мгновенный позитив именно для литографии.
Депозиция — это этап нанесения тонких слоев материалов, травление — формирование рисунка на поверхности. В связке с литографией эти процессы являются частью технологической цепочки. Логика UBS такова: если инвестиции в литографию в 2025 году фактически начинают «разворачивать» производственные линии только позже, то и ощутимая отдача по литографическому сегменту может проявиться в 2027 году.
High NA и ранние сигналы рынка: ставка на внедрение в 2028–2029
В контексте следующего поколения EUV — технологии High NA (High Numerical Aperture, то есть «высокая числовая апертура») — UBS сослался на обратную связь, прозвучавшую на конференции SPIE. По оценке банка, эти сигналы поддерживают уверенность в темпах принятия технологии рынком.
Среди факторов, которые UBS выделил как позитивные для старта внедрения High NA, названы:
- экономия затрат на 20–40% по сравнению с альтернативными методами формирования рисунка;
- ожидаемая доступность оборудования выше 90% во второй половине 2026 года;
- существенное упрощение процесса, которое может снизить сложность и повысить предсказуемость перехода на новые технологические режимы.
На этой основе UBS связывает первые заметные шаги по внедрению High NA с горизонтом 2028–2029 годов.
Финансовые ориентиры: валовая маржа и консервативность диапазона
По итогам первого квартала ASML валовая маржа составила 53%. Компания также подтвердила годовой прогноз по валовой марже в диапазоне 51–53%.
Аналитики UBS считают, что этот диапазон может быть умеренно консервативным — частично из-за ограниченной видимости по будущим апгрейдам и изменениям производственного процесса. В результате UBS прогнозирует валовую маржу на весь год на уровне 53,8%, что соответствует верхней границе и потенциалу ее превышения внутри диапазона.
Что это может значить для рынка
В сумме аргументы UBS строятся вокруг идеи: производственные возможности ASML по EUV в горизонте 2027 года выглядят более реалистично, чем думает часть инвесторов, а временные просадки в отдельных географиях могут компенсироваться за счет спроса в других сегментах. При этом ключевым триггером остается способность компании удерживать дисциплину наращивания выпуска и добиваться улучшений эффективности — как в текущих платформах, так и в новых моделях EUV.